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常温性菌核病菌 Sclerotinia sclerotiorum 由来のポリガラクツロナーゼⅠの単離 OAK
高橋, 裕司; 井熊, 武志; 匂坂, 慶子; 斉藤, 泉; 髙澤, 俊英; TAKAHASHI, Yuji; IKUMA, Takeshi; SAGISAKA, Keiko; SAITO, Izumi; TAKASAWA, Toshihide.
CM-Toyopearl陽イオン交換カラムクロマトグラフィーおよびSephacryl S-200ゲルろ過カラ ムクロマトグラフィーによって、常温性菌核病菌Sclerotinia sclerotiorumの20℃培養抽出物 のポリガラクツロナーゼ活性画分からポリガラクツロナーゼⅠを単離した。ポリガラクツ ロナーゼⅠ精製標品(P4-4-2)の比活性は3 662U/mgであり、粗抽出液から全体として116倍に 精製した。精製標品はポリアクリルアミドゲル電気泳動によって、均一であることが示さ れた。また、SDS存在下ポリアクリルアミドゲル電気泳動によって本酵素の分子質量は 39.8±1.10kDa(S.E.)、さらに等電点電気泳動によって本酵素の等電点はpH8.70と見積もられた。 Polygaracturonase􀑏has been isolated from the mesophilic white mold Sclerotinia Sclerotiorum by cation-exchange chromatography on a column of CM-Toyopearl followed by gel filtration on a column of Sephacryl S-200. Purified enzyme preparation(P4-4-2) had a specific activity of 3 662 units per mg of protein, that is, 116-fold purification over the crude extract of the wheat bran culture of the mesophilic fungus S....
Palavras-chave: Sclerotinia sclerotiorum; 常温菌; 菌核病菌; ポリガラクツロナーゼ; 細胞壁分解酵素; Mesophile; White mold; Polygalacturonase; Cell wall degrading enzyme.
Ano: 2002 URL: http://ir.obihiro.ac.jp/dspace/handle/10322/106
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低温性通性雪腐菌核病菌Sclerotinia trifoliorum のアルファルファ培養において産生されるポリガラクツロナーゼ活性 OAK
渡辺, 剛志; 波川, 啓土; 斉藤, 泉; 髙澤, 俊英; WATANABE, Tsuyoshi; NAMIKAWA, Yoshitada; SAITO, Izumi; TAKASAWA, Toshihide.
低温性通性雪腐菌核病菌Sclerotinia trifoliorum の低温適応現象を解明するために, 5℃及び20℃で産生するポリガラクツロナーゼ(PGase) 活性の性質を調べた。 S. trifoliorum のアルファルファ培地での培養は5℃では160日間(最適培養日数), 20℃では45日間(最適培養日数) 行った。 5℃及び20℃培養粗抽出液のPGase 活性は, それぞれ30.8±0.4 U/mL (抽出体積462mL, Total activity 14 200U), 36.5±0.9 U/mL (抽出体積454mL, Total activity 16 600U) であり, 低温 においてもPGase 産生量が著しく低下しないことがわかった。これら粗抽出液をBio-Gel P-6 DG ゲル濾過クロマトグラフィーによる脱塩操作後に, 5℃及び20℃培養脱塩画分のPGase 活性の性質を調べた。温度依存性については, 最適温度は5℃及び20℃培養PGase 活性ともに50℃であり, 50℃での活性に対する各温度での相対活性によって両者を較べると, それらの曲線は両者でほぼ一致した。温度安定性については, 残存活性で比較すると, 5℃培養PGase 活性は15℃~35℃において僅かであるが20℃培養のものにくらべて不安定性を示した。一方, 45~55℃では若干の安定性を示した。pH 依存性については, 5℃培養PGase 活性の最適pH は4.5であり, 20℃培養は4.0であった。従って, これらの結果は5℃及び20℃培養によって産生された各々のPGase アイソザイムが異なることを示した。 In order to clarify cold adaptation phenomenon of...
Palavras-chave: Sclerotinia trifoliorum; 低温菌; ポリガラクツロナーゼ; 低温適応; 細胞壁分解酵素; Sclerotinia trifoliorum; Psychrotroph; Polygalacturonase; Cold adaptaition; Cell wall degrading enzyme.
Ano: 2004 URL: http://ir.obihiro.ac.jp/dspace/handle/10322/102
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Isolation of polygalacturonase I from the culture of the psychrophilic snow mold Sclerotinia borealis OAK
高橋, 裕司; 井熊, 武志; 匂坂, 慶子; 斉藤, 泉; 髙澤, 俊英; TAKAHASHI, Yuji; IKUMA, Takeshi; SAGISAKA, Keiko; SAITO, Izumi; TAKASAWA, Toshihide.
Palavras-chave: Sclerotinia borealis; 好冷菌; 雪腐菌核病菌; ポリガラクツロナーゼ; 細胞壁分解酵素; Psychrophile; Snow mold; Cell wall degrading enzyme; Polygalacturonase.
Ano: 2002 URL: http://ir.obihiro.ac.jp/dspace/handle/10322/120
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好冷性雪腐小粒菌核病菌Typhula ishikariensisの産生するポリガラクツロナーゼ活性の低温適応 OAK
田中, 明良; 斉藤, 泉; 髙澤, 俊英; TANAKA, Akira; SAITO, Izumi; TAKASAWA, Toshihide.
Palavras-chave: Typhula ishikariensis; 好冷菌; ポリガラクツロナーゼ; 低温適応; 細胞壁分解酵素; Psychrophile; Polygalacturonase; Cold adaptation; Cell wall degrading enzyme.
Ano: 2003 URL: http://ir.obihiro.ac.jp/dspace/handle/10322/114
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低温性通性雪腐菌核病菌Sclerotinia trifoliorumの小麦フスマ培養において産生されるポリガラクツロナーゼ活性の低温適応 OAK
渡辺, 剛志; 斉藤, 泉; 髙澤, 俊英; WATANABE, Tsuyoshi; SAITO, Izumi; TAKASAWA, Toshihide.
Palavras-chave: Sclerotinia trifoliorum; 低温菌; ポリガラクツロナーゼ; 低温適応; 細胞壁分解酵素; Psychrotroph; Polygalacturonase; Cold adaptation; Cell wall degrading enzyme.
Ano: 2003 URL: http://ir.obihiro.ac.jp/dspace/handle/10322/113
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低温性雪腐病菌Sclerotinia nivalis のアルファルファ培養ポリガラクツロナーゼ活性の低温適応 OAK
渡辺, 剛志; 島田, 幹男; 波川, 啓土; 斉藤, 泉; 髙澤, 俊英; WATANABE, Tsuyoshi; SHIMADA, Mikio; NAMIKAWA, Yoshitada; SAITO, Izumi; TAKASAWA, Toshihide.
低温性雪腐病菌Sclerotinia nivalis の低温適応現象を解明するために, 5℃及び20℃で産生するポリガラ クツロナーゼ(PGase)活性の性質を調べた。S. nivalis のアルファルファ培地での培養は5℃では187 日間, 20℃では195 日間行った。5℃及び20℃培養粗抽出液のPGase 活性は, それぞれ57.9±0.4 U/mL(抽出体積 740mL, Total activity 42 800U), 20.4±0.4 U/mL(抽出体積655mL, Total activity 13 400U)であり, 5℃ 培養は20℃培養より2.8 倍高くPGase を産生した。温度依存性については, 5℃及び20℃培養PGase 活性とも に最適温度は50℃であった。5℃培養粗抽出液PGase 活性含量(U/mL)は, 5-70℃のほぼ全域の温度範囲におい て20℃培養粗抽出液PGase 活性に較べてかなり高かった。50℃での活性に対する各温度での相対活性での比 較においては, 5℃培養粗抽出液PGase活性は, 5-40℃の低温域温度範囲において20℃培養粗抽出液より約1.5 倍(40℃)-3.5 倍(5℃)高かった。pH 依存性については, 最適pH はいずれもpH4.0-4.5 であったが, pH5.0-6.0 においては傾向は異なっていた。温度安定性については, 5℃培養粗抽出液は5から30℃までは安定であった。 一方, 20℃のものは, 40℃まで安定であった。 これらのことから, S. nivalis は, 5℃での低温培養においては, 熱不安定な低温活性PGase を大量に産生す ることによって低温に適応していることが示された。
Palavras-chave: Sclerotinia nivalis; 低温菌; ポリガラクツロナーゼ; 低温適応; 細胞壁分解酵素.
Ano: 2005 URL: http://ir.obihiro.ac.jp/dspace/handle/10322/86
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