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| 渡辺, 剛志; 波川, 啓土; 斉藤, 泉; 髙澤, 俊英; WATANABE, Tsuyoshi; NAMIKAWA, Yoshitada; SAITO, Izumi; TAKASAWA, Toshihide. |
| 低温性通性雪腐菌核病菌Sclerotinia trifoliorum の低温適応現象を解明するために, 5℃及び20℃で産生するポリガラクツロナーゼ(PGase) 活性の性質を調べた｡ S. trifoliorum のアルファルファ培地での培養は5℃では160日間(最適培養日数), 20℃では45日間(最適培養日数) 行った｡ 5℃及び20℃培養粗抽出液のPGase 活性は, それぞれ30.8±0.4 U/mL (抽出体積462mL, Total activity 14 200U), 36.5±0.9 U/mL (抽出体積454mL, Total activity 16 600U) であり, 低温 においてもPGase 産生量が著しく低下しないことがわかった｡これら粗抽出液をBio-Gel P-6 DG ゲル濾過クロマトグラフィーによる脱塩操作後に, 5℃及び20℃培養脱塩画分のPGase 活性の性質を調べた｡温度依存性については, 最適温度は5℃及び20℃培養PGase 活性ともに50℃であり, 50℃での活性に対する各温度での相対活性によって両者を較べると, それらの曲線は両者でほぼ一致した｡温度安定性については, 残存活性で比較すると, 5℃培養PGase 活性は15℃～35℃において僅かであるが20℃培養のものにくらべて不安定性を示した｡一方, 45～55℃では若干の安定性を示した｡pH 依存性については, ５℃培養PGase 活性の最適pH は4.5であり, 20℃培養は4.0であった｡従って, これらの結果は5℃及び20℃培養によって産生された各々のPGase アイソザイムが異なることを示した｡ In order to clarify cold adaptation phenomenon of... |
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Palavras-chave: Sclerotinia trifoliorum; 低温菌; ポリガラクツロナーゼ; 低温適応; 細胞壁分解酵素; Sclerotinia trifoliorum; Psychrotroph; Polygalacturonase; Cold adaptaition; Cell wall degrading enzyme. |
| Ano: 2004 |
URL: http://ir.obihiro.ac.jp/dspace/handle/10322/102 |
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| 波川, 啓土; 渡辺, 剛志; 斉藤, 泉; 髙澤, 俊英; NAMIKAWA, Yoshitada; WATANABE, Tsuyoshi; SAITO, Izumi; TAKASAWA, Toshihide. |
| Potato dextrose agar (PDA) 培養に於いて, 好冷性雪腐大粒菌核病菌S. borealis の菌糸成 長は菌糸を移植した場合でも菌核を移植した場合でも同じように, 0.25M 及び0.5M D-マンニトー ルを添加することによって著しく促進された｡促進効果については菌糸を培養した場合の方が, 菌 核を培養した場合に較べて, より大きかった｡単位面積当たりのPDA 培地量に対する成長の早さ については, 培地量が多い場合(20mL) の方が少ない場合(10mL) に比べて成長の速度がより早かった｡ Growth of psychrophilic snow mold Sclerotinia borealis on the potato dextrose agar (PDA) culture was remarkably promoted by adding 0.25M and also 0.5M D-mannitol, either when the sclerotium was transplanted and when the hypha was innoculated. The promoting effect was greater when the hypha was cultivated than in the case in which the sclerotium was cultivated. The growth speed for PDA medium quantity per unit area where the medium volume was large (20mL) was faster than the case of small amount... |
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Palavras-chave: 雪腐病菌Sclerotinia borealis; 好乾性; D-マンニトール; PDA; 好冷性; Snow mold Sclerotinia borealis; Xerophilic; D-mannitol; Psychrophilic. |
| Ano: 2004 |
URL: http://ir.obihiro.ac.jp/dspace/handle/10322/90 |
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| 渡辺, 剛志; 島田, 幹男; 波川, 啓土; 斉藤, 泉; 髙澤, 俊英; WATANABE, Tsuyoshi; SHIMADA, Mikio; NAMIKAWA, Yoshitada; SAITO, Izumi; TAKASAWA, Toshihide. |
| 低温性雪腐病菌Sclerotinia nivalis の低温適応現象を解明するために, 5℃及び20℃で産生するポリガラ クツロナーゼ(PGase)活性の性質を調べた。S. nivalis のアルファルファ培地での培養は5℃では187 日間, 20℃では195 日間行った。5℃及び20℃培養粗抽出液のPGase 活性は, それぞれ57.9±0.4 U/mL(抽出体積 740mL, Total activity 42 800U), 20.4±0.4 U/mL(抽出体積655mL, Total activity 13 400U)であり, 5℃ 培養は20℃培養より2.8 倍高くPGase を産生した。温度依存性については, 5℃及び20℃培養PGase 活性とも に最適温度は50℃であった。5℃培養粗抽出液PGase 活性含量(U/mL)は, 5-70℃のほぼ全域の温度範囲におい て20℃培養粗抽出液PGase 活性に較べてかなり高かった。50℃での活性に対する各温度での相対活性での比 較においては, 5℃培養粗抽出液PGase活性は, 5-40℃の低温域温度範囲において20℃培養粗抽出液より約1.5 倍(40℃)-3.5 倍(5℃)高かった。pH 依存性については, 最適pH はいずれもpH4.0-4.5 であったが, pH5.0-6.0 においては傾向は異なっていた。温度安定性については, 5℃培養粗抽出液は5から30℃までは安定であった。 一方, 20℃のものは, 40℃まで安定であった。 これらのことから, S. nivalis は, 5℃での低温培養においては, 熱不安定な低温活性PGase を大量に産生す ることによって低温に適応していることが示された。 |
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Palavras-chave: Sclerotinia nivalis; 低温菌; ポリガラクツロナーゼ; 低温適応; 細胞壁分解酵素. |
| Ano: 2005 |
URL: http://ir.obihiro.ac.jp/dspace/handle/10322/86 |
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